ニコン、解像度0.5μm半導体露光装置の開発着手…後発も存在感発揮なるか

「ニコン、解像度0.5μm半導体露光装置の開発着手…後発も存在感発揮なるか」　ニコンは２０日、解像度０・５マイクロメートル（マイクロは１００万分の１）の半導体製造後工程向け露光装置の開発に着手すると発表した。新エネルギー・産業技術総合開発機構（ＮＥＤＯ）の研究開発事業「ポスト５Ｇ情報通信システム基盤強化研究開発事業／先端半導体製造技術の開発（補助）」に採択された。採択額は非公表。